衡阳真空机电设备有限公司
供应直流磁控溅射电源(图)
产品介绍:
用途
可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层。
特点
1、采用先进的逆变技术和IGBT功率开关器件设计
2、采用PWM控制技术、恒流特性好、电源控制精确
3、自动恒流输出,不随气压变化,提高沉积速率,工艺重复性好
4、抑制靶材弧光放电及抗短路功能,内置电子电抗,具有极佳的负载匹配能力
5、LED数码电流、电压显示、清晰直观
6、轻巧、高效、节能。同等功率比可控硅电源节约电能40%以上
7、模块化设计、全系列产品风冷长期稳定性好,可N+1备份、保障安全生产
8、可根据用户量身定做设计制造特种电源系统
主要技术项目
项目 DC—10kw DC—20kw DC—30kw DC—40kw
输入电源电压频率(V、Hz) AC380+N AC380+N AC380+N AC380+N
三相四线 +15%,50/60 +15%,50/60 +15%,50/60 +15%,50/60
输出电流调节范围(A) 0~15 0~30 0~45 0~60
稳流精度 ≤1% ≤1% ≤1% ≤1%
额定输出电压(ACV) 200~1000 200~1000 200~1000 200~1000
负载持续率(%) 85 85 85 85
重量(KG) 25 35 40 70
外形尺寸(mm) 650(D)×480(W)×250(H) 860(D)×600(W)×600(H)
绝缘等级 B B B B
效率(%) 90 90 90 90
功率因数COSΦ 0.93 0.93 0.93 0.93
外壳防护等级 Ip21 Ip21 Ip21 Ip21
工作模式 恒压、恒流、恒功率可任意选择,常规恒流输出
外部接口 本系列产品,均可设微机式PLC控制
发布日期: | 2008年07月25日 |
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有效期: | 2010年07月22日 |