衡阳真空机电设备有限公司

供应直流磁控溅射电源(图)

产品介绍: 用途 可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层。 特点 1、采用先进的逆变技术和IGBT功率开关器件设计 2、采用PWM控制技术、恒流特性好、电源控制精确 3、自动恒流输出,不随气压变化,提高沉积速率,工艺重复性好 4、抑制靶材弧光放电及抗短路功能,内置电子电抗,具有极佳的负载匹配能力 5、LED数码电流、电压显示、清晰直观 6、轻巧、高效、节能。同等功率比可控硅电源节约电能40%以上 7、模块化设计、全系列产品风冷长期稳定性好,可N+1备份、保障安全生产 8、可根据用户量身定做设计制造特种电源系统 主要技术项目 项目           DC—10kw  DC—20kw  DC—30kw  DC—40kw 输入电源电压频率(V、Hz) AC380+N  AC380+N   AC380+N  AC380+N 三相四线        +15%,50/60 +15%,50/60 +15%,50/60 +15%,50/60 输出电流调节范围(A)   0~15   0~30    0~45    0~60 稳流精度          ≤1%    ≤1%    ≤1%    ≤1% 额定输出电压(ACV)  200~1000  200~1000  200~1000  200~1000 负载持续率(%)       85     85     85     85 重量(KG)         25     35     40     70 外形尺寸(mm)      650(D)×480(W)×250(H) 860(D)×600(W)×600(H) 绝缘等级           B     B      B     B 效率(%)          90     90     90     90 功率因数COSΦ       0.93    0.93     0.93    0.93 外壳防护等级       Ip21     Ip21    Ip21    Ip21 工作模式         恒压、恒流、恒功率可任意选择,常规恒流输出 外部接口           本系列产品,均可设微机式PLC控制
发布日期: 2008年07月25日
有效期: 2010年07月22日